原子层沉积设备简称ald设备（   atomic layer deposition system  的简写）其镀膜方法是  每个周期镀一次单原子层膜，通过反复循环镀膜周期形成薄  膜  。可达到单原子层级别的膜厚控制，可镀高质量 ，且高阶梯覆盖性薄膜  。       作为一种表面控制的、自限制性的化学气相沉积方法，ald既可以在大面积平面衬底表面也可以在复杂的纳米尺度衬底表面（如超高深宽比沟槽与复杂弯曲的多孔材料）上进行均匀性、保形性、无缺陷、裂痕与针孔的薄膜生长。生长的薄膜种类繁多，除氧化物、氮化物、化物、化物以及纯金属单质薄膜外，还包括纳米叠层  、  梯度层  、  复合氧化物和掺杂薄膜等。它们的应用范围十分广泛，如半导体与集成电路、mems/nems、传感器、光学与光电器件、催化剂、清洁与可再生能源、防腐蚀保护层、装饰涂层与抗变色涂层、水  钝  化与创新型的包装材料等  。  北京维意真空技术应用有限责任公司 www.waye 4006-521-586 sales@waye